乜嘢係專利侵權損害賠償的合理版稅。 ensplas 訴 seoul

專利還授予發明人嘅一套專有權利, 有資格獲得專利保護。要在美國獲得專利, 發明人必須向美國專利商標局提交專利申請。專利申請必須證明發明符合授予專利的所有要求, 即發明係新嘅、有用嘅、唔明顯嘅。如果美國專利商標局肯定專利申請符合要求, 將向發明人授予專利。專利所有人被授予在美國製造、使用、銷售或進口發明的專屬權利。如果專利所有人以外的人試圖行使呢啲可被視為專利侵權嘅專屬權利之一。專利所有人可以向美國聯邦法院提起訴訟, 以解決專利侵權問題。

當專利所有人成功證明發生專利侵權時, 專利權人有權向被告獲得損害賠償。法院應給予專利所有人夠嘅損害賠償, 以賠償侵權行為, 但在任何情況下都不得低於被告使用發明嘅合理版稅, 以及法院確定的利息和費用。這意味着, 如果原告無法證明專利侵權造成的金錢損害, 他們仍然可以收回原告在被告許可專利嘅情況下可以獲得嘅錢。

一定要記住嘅一個重要問題是, 許可協議與專利技術有關。許可協議唔會涉及與專利技術無關的產品。似乎好明顯, 但當一家公司有数百種旨在為同一目的服務嘅產品時, 好易唔記得專利所有者只會在與許可專利有關嘅產品上獲得版稅。

enplas 顯示設備公司訴 seoul 半導體 co, 2016-25年 (c. A. f. c. 2018) 係一個案例, 話明喺計算合理嘅特許權使用費時需要考慮的因素。呢種情況下圍繞住用來照亮電視和手提電腦等設備上屏幕的燈光。原告 enplas 是一家日本膠鏡片製造商, 用于 “輕條”, 用於平板電視的背光顯示器。 ssc 係一間生產和銷售 led 嘅韓國公司, 都用於背光平板電視的燈條。 2010年11月至 2011年6月, ssc 同 enplas 合作為 ssc 嘅輕條製造鏡片, 呢啲鏡片由 ssc 嘅專利覆蓋。 2012年, enplas 向競爭對手提供了鏡片, ssc 被指控為專利侵權嘅 enplas, enplas 提起訴訟, 要求令 ssc 的專利無效。地區法院裁定 ssc 為 ssc, 並根據合理嘅版稅計算損害賠償額, 包括未被指控侵權的鏡片。 enplas 向聯邦巡迴上訴法院提出上訴。

聯邦巡迴法院撤銷了損害賠償金, 並將案件發回重審。聯邦巡迴法院認為, 合理嘅版稅唔可以包括唔侵犯專利嘅活動。專利損害賠償僅限於對專利侵權嘅賠償。

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