如何保護我嘅電腦芯片嘅設計？

電腦芯片係互聯網時代嘅工廠。工廠由砖同砂漿建造，電腦芯片由半導體製造。工廠和電腦芯片嘅設計都係嚴密保密嘅秘密，因為擁有最好設計嘅人可以主宰市場。工廠可以使用藍印複製，電腦芯片可以使用掩碼作品複製。

掩碼工作係一系列相關嘅圖像，無論固定或編碼（ 1 ），它們具有或表示半導體芯片產品層中存在或移除嘅金屬、絕緣或半導體材料嘅訂三維圖案; （ 2 ）其中序列中圖像之間嘅關係係每個圖像具有半導體芯片產品一種形式嘅表面圖案。

長期以來，電腦芯片設計冇得到任何特殊保護，競爭對手可以自由地複製彼此嘅設計。 1984年，《半導體芯片保護法》（SCPA）為固定在半導體芯片中的掩碼工程建立了一種新型的知識產權保護。它透過修正《美國法典》第17章，增加咗第九章。

面具作品嘅保護唔係版權保護。面具作品保護嘅法律要求與版權保護嘅法律要求喺保護資格、所有權、註冊程序、保護期限和侵犯權利嘅補救措施方面有所不同。 SCPA保護喺金屬、絕緣或半導體材料層上或層中形成嘅三維圖像或圖案，呢啲圖像或圖案固定喺半導體芯片產品中，也就是說”芯片”的”地形”。

蒙版作品嘅保護不同於其他受版權保護嘅圖像，因為掩碼作品係純粹嘅功能功能，受到保護，前提係掩碼作品既唔係由特定嘅電子功能決定嘅，都唔係為數不多的可用設計選擇之一，將完成該功能。 SCPA嘅保護唔延伸至與
面具作品，無論喺掩碼作品（ 17美國版第902.C（ c ））項中描述、解釋、說明或體現嘅形式如何。

要根據《中國面具法》獲得面具作品嘅保護，面具作品必須喺對面具作品進行商業開發後2年內向美國版權局登記。口罩保護工作自註冊之日起持續10年。

在保護期間，面具作品嘅所有者擁有以下專屬權利：
1通過光學、電子或任何其他手段再現面膜工作;
2進口或分銷體現掩膜工作嘅半導體芯片產品; 和
3誘使或明知故犯地導致另一人進行上述第1號同2號所述嘅任何行為。

註冊掩碼工作授予所有者董事會權利，但有啲限制。 SCPA允許對掩碼工作進行反向工程，僅用于教學、分析或評估掩碼工作或電路、邏輯流或面罩工作中使用嘅組件嘅組織中所體現的概念或技術。

執行合法反向工程嘅人可以把結果合併到要派嘅原始掩碼工作中。購買者仲獲得首次銷售半導體芯片所產生嘅權利。 SCPA規定，半導體芯片產品嘅購買者有權自由使用和轉售，但未經半導體芯片產品所體現嘅掩膜工作所有者嘅許可，不得複製它們。

儘管有呢啲限制，但面罩工作嘅註冊係保護電腦芯片設計師投資嘅一種廉價而簡單嘅方法。《半導體芯片保護法》為電腦芯片設計人員提供了一種簡單而廉價嘅方法嚟保護其掩碼工程免受未經授權嘅複製。

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