什么是专利侵权损害赔偿的合理版税。ensplas 诉 seoul
什么是专利侵权损害赔偿的合理版税。ensplas 诉 seoul
专利是授予发明人的一套专有权利, 有资格获得专利保护。 要在美国获得专利, 发明人必须向美国专利商标局提交专利申请。 专利申请必须证明发明符合授予专利的所有要求, 即发明是新的、有用的、不明显的。 如果美国专利商标局确定专利申请符合要求, 将向发明人授予专利。 专利所有人被授予在美国制造、使用、销售或进口发明的专属权利。 如果专利所有人以外的人试图行使这些可被视为专利侵权的专属权利之一。 专利所有人可以向美国联邦法院提起诉讼, 以解决专利侵权问题。
当专利所有人成功证明发生了专利侵权时, 专利权人有权向被告获得损害赔偿。 法院应给予专利所有人足够的损害赔偿, 以赔偿侵权行为, 但在任何情况下都不得低于被告使用发明的合理版税, 以及法院确定的利息和费用。 这意味着, 如果原告无法证明专利侵权造成的金钱损害, 他们仍然可以收回原告在被告许可专利的情况下可以获得的钱。
必须记住的一个重要问题是, 许可协议与专利技术有关。 许可协议不会涉及与专利技术无关的产品。 这似乎很明显, 但当一家公司有数百种旨在为同一目的服务的产品时, 很容易忘记专利所有者只会在与许可专利有关的产品上获得版税。
enplas 显示设备公司诉 seoul 半导体 co, 2016-25年 (c. a. f. c. 2018) 是一个案例, 说明了在计算合理的特许权使用费时需要考虑的因素。 这种情况下围绕着用来照亮电视机和笔记本电脑等设备上屏幕的灯光。 原告 enplas 是一家日本塑料镜片制造商, 用于 “轻条”, 用于平板电视的背光显示器。ssc 是一家生产和销售 led 的韩国公司, 也用于背光平板电视的灯条。 2010年11月至 2011年6月, ssc 和 enplas 合作为 ssc 的轻条制造镜片, 这些镜片由 ssc 的专利覆盖。 2012年, enplas 向竞争对手提供了镜片, ssc 被指控为专利侵权的 enplas, enplas 提起诉讼, 要求使 ssc 的专利无效。 地区法院裁定 ssc 为 ssc, 并根据合理的版税计算损害赔偿额, 包括未被指控侵权的镜片。 enplas 向联邦巡回上诉法院提出上诉。
联邦巡回法院撤销了损害赔偿金, 并将案件发回重审。 联邦巡回法院认为, 合理的版税不能包括不侵犯专利的活动。 专利损害赔偿仅限于对专利侵权的赔偿。
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